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            為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
            • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備
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            • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備
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            • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備
            "產(chǎn)品中心
            為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
            AVP IBE System
            - 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。 
            
-  成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)  
            
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝  
            
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性
            - 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。 
            
-  成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)  
            
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝  
            
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性 
            
- 純物理刻蝕，采用惰性氣體為工藝氣體，環(huán)保、無(wú)污染，應(yīng)用廣泛
            AVP HR PVD System
            -高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
            
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
            
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
            
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
            
-高靶材使用率（>8
            -高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
            
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
            
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
            
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
            
-高靶材使用率（>80%）
            AVP 4T PVD SYSTEM
            -各種薄膜、精密光學(xué)薄膜，及高溫（Max. 1000℃）
沉積的解決方案
            
-各種成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反應(yīng)等薄膜沉積工藝
            
-成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜沉積系統(tǒng)
            
-廣泛應(yīng)用于歐美光學(xué)器件、MEMS、存儲(chǔ)等工業(yè)界的薄膜沉積
            -各種薄膜、精密光學(xué)薄膜，及高溫（Max. 1000℃）
沉積的解決方案
            
-各種成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反應(yīng)等薄膜沉積工藝
            
-成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜沉積系統(tǒng)
            
-廣泛應(yīng)用于歐美光學(xué)器件、MEMS、存儲(chǔ)等工業(yè)界的薄膜沉積
            "支持與服務(wù)
            為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
            "關(guān)于艾微普
            為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
            專(zhuān)注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備
            艾微普公司是基于美國(guó)硅谷科技技術(shù)團(tuán)隊(duì)成立的半導(dǎo)體設(shè)備公司，在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導(dǎo)體設(shè)備、工藝、材料專(zhuān)家，專(zhuān)注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備。

            
公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射（PVD）、離子束刻蝕機(jī)（IBE）、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE）、電子束蒸鍍機(jī)等系列MEMS、半導(dǎo)體、新能源器件制造專(zhuān)用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來(lái)，已經(jīng)獲得幾十項(xiàng)國(guó)家專(zhuān)利。
            公司總部
            中國(guó)浙江省嘉興市海寧市海寧大道8號(hào)科技綠洲8號(hào)樓1層
             手機(jī)網(wǎng)站
            支持與服務(wù)
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